航空发动机一直被誉为人类顶尖工业皇冠上的明珠。但最近十年，不断挑战物理学极限的半导体光刻机，大有挑战明珠之王的趋势。

科技大国的资本局已经到了临界点，是否限制中国购买设备成为越来越紧迫的压力，需要这42位局中人做出选择。成也政治，败也政 ...

台积电今天宣布将全年的资本开支从110亿美元提升到140-150亿美元，增长了40%左右，希望进一步提升7nm及5nm产能。

全球半导体设备厂ASML于17日公布2019年第2季财报。资料显示，ASML第一季缴出成长成绩单，整体表现优于市场预期。

在半导体制造过程中，最重要的一个过程就是光刻工艺，需要用到光刻机，7nm及以下节点工艺则需要EUV光刻机，目前只有荷兰ASML ...

在先进制程纳米节点持续微缩下，光刻机是重要关键设备。12寸晶圆主要光刻机为ArF immersion机台，可覆盖45nm一路往下到7nm节 ...