IC制造 缺了日本关键材料,三星7nm EUV要凉了 从7月1日开始,日本突然宣布,氟聚酰亚胺(Fluorine Polyimide)、半导体制造中的核心材料光刻胶和高纯度氟化氢(Eatching Gas) ... IC猫 2019-07-12
材料设备 继续!日本强硬拒绝撤回对韩国制裁 从7月1日开始,日本突然宣布,氟聚酰亚胺(Fluorine Polyimide)、半导体制造中的核心材料光刻胶和高纯度氟化氢(Eatching G ... IC猫 2019-07-11
材料设备 ASML光刻机机密被中国人窃取? 在半导体制造过程中,最重要的一个过程就是光刻工艺,需要用到光刻机,7nm及以下节点工艺则需要EUV光刻机,目前只有荷兰ASML ... IC猫 2019-07-11
IC设计/EDA 通过实时网络实现多轴运动控制的同步 摘要 实时确定性以太网协议(例如EtherCAT)已经能够支持多轴运动控制系统的同步运行。1该同步包含两方面含义。首先,各 ... IC猫 2019-07-09
IC设计/EDA 采用PGA的SAR转换器可实现125 dB的动态范围 问题: 16位SAR转换器应用能否在600 kSPS时达到125 dB的动态范围? 答案: 能,89 dB+18 dB+20 dB≥125 dB。 简 ... IC猫 2019-07-09